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Silice émise de la vapeur
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| Lieu d'origine | CHINE |
| Numéro de modèle | 200 |
| Qualité | Unité | Portée |
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| Perte de séchage | % | > 15 |
| Valeur de pH | 3.7 à 4.5 | |
| SiO2contenu | % | > 998 |
| Surface spécifique (BET) | M2/g | 175 à 225 |
| Densité de tampon | g/l | Environ 50. |
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